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Ieee Transactions On Plasma Science
收藏雜志
  • 數(shù)據(jù)庫(kù)收錄SCIE
  • 創(chuàng)刊年份1973年
  • 年發(fā)文量419
  • H-index98

Ieee Transactions On Plasma Science

期刊中文名：IEEE Transactions On Plasma ScienceISSN：0093-3813E-ISSN：1939-9375

該雜志國(guó)際簡(jiǎn)稱(chēng)：IEEE T PLASMA SCI，是由出版商Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版的一本致力于發(fā)布物理與天體物理研究新成果的的專(zhuān)業(yè)學(xué)術(shù)期刊。該雜志以PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS研究為重點(diǎn)，主要發(fā)表刊登有創(chuàng)見(jiàn)的學(xué)術(shù)論文文章、行業(yè)最新科研成果，扼要報(bào)道階段性研究成果和重要研究工作的最新進(jìn)展，選載對(duì)學(xué)科發(fā)展起指導(dǎo)作用的綜述與專(zhuān)論，促進(jìn)學(xué)術(shù)發(fā)展，為廣大讀者服務(wù)。該刊是一本國(guó)際優(yōu)秀雜志，在國(guó)際上有很高的學(xué)術(shù)影響力。

基本信息：
期刊簡(jiǎn)稱(chēng)：IEEE T PLASMA SCI
是否OA：未開(kāi)放
是否預(yù)警：否
Gold OA文章占比：3.86%
出版信息：
出版地區(qū)：UNITED STATES
出版周期：Bimonthly
出版語(yǔ)言：English
出版商：Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
評(píng)價(jià)信息：
中科院分區(qū)：4區(qū)
JCR分區(qū)：Q3
影響因子：1.3
CiteScore：3
雜志介紹 中科院JCR分區(qū) JCR分區(qū) CiteScore 投稿經(jīng)驗(yàn)

雜志介紹

Ieee Transactions On Plasma Science雜志介紹

《Ieee Transactions On Plasma Science》是一本以English為主的未開(kāi)放獲取國(guó)際優(yōu)秀期刊，中文名稱(chēng)IEEE Transactions On Plasma Science，本刊主要出版、報(bào)道物理與天體物理-PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS領(lǐng)域的研究動(dòng)態(tài)以及在該領(lǐng)域取得的各方面的經(jīng)驗(yàn)和科研成果，介紹該領(lǐng)域有關(guān)本專(zhuān)業(yè)的最新進(jìn)展，探討行業(yè)發(fā)展的思路和方法，以促進(jìn)學(xué)術(shù)信息交流，提高行業(yè)發(fā)展。該刊已被國(guó)際權(quán)威數(shù)據(jù)庫(kù)SCIE收錄，為該領(lǐng)域相關(guān)學(xué)科的發(fā)展起到了良好的推動(dòng)作用，也得到了本專(zhuān)業(yè)人員的廣泛認(rèn)可。該刊最新影響因子為1.3，最新CiteScore 指數(shù)為3。

本刊近期中國(guó)學(xué)者發(fā)表的論文主要有：

  • Topology Analysis of Full-Controlled Hybrid Switching Network in Fusion Device

    Author: Xu, Qianglin; Song, Zhiquan; Li, Hua; Xu, Meng; Zhang, Xining; Li, Zhenhan

  • Effect of Temperature on Current Pulse Characteristics of Negative Corona Discharge Based on Numerical Model

    Author: Zhang, Lijing; Sheng, Gehao; Hou, Huijuan; Zhou, Nan; Song, Hui; Jiang, Xiuchen

  • A Magnetic Field Induced Cold Atmospheric Pressure Air Plasma Jet

    Author: Jin, ShaoHui; Nie, LanLan; Liu, DaWei; Lu, XinPei

  • High-Power Millimeter-Wave Dummy Load Reflected Power Measurement Method Based on a Time-Domain Gate

    Author: Huang, Qili; Sun, Dimin; Hu, Linlin; Zhuo, Tingting; Hu, Peng; Jiang, Yi; Zhang, Luqi; Hu, Xinrui; Ma, Guowu; Chen, Hongbin; Jin, Xiao

英文介紹

Ieee Transactions On Plasma Science雜志英文介紹

The scope covers all aspects of the theory and application of plasma science. It includes the following areas: magnetohydrodynamics; thermionics and plasma diodes; basic plasma phenomena; gaseous electronics; microwave/plasma interaction; electron, ion, and plasma sources; space plasmas; intense electron and ion beams; laser-plasma interactions; plasma diagnostics; plasma chemistry and processing; solid-state plasmas; plasma heating; plasma for controlled fusion research; high energy density plasmas; industrial/commercial applications of plasma physics; plasma waves and instabilities; and high power microwave and submillimeter wave generation.

中科院SCI分區(qū)

Ieee Transactions On Plasma Science雜志中科院分區(qū)信息

2023年12月升級(jí)版
綜述：否
TOP期刊：否
大類(lèi)：物理與天體物理 4區(qū)
小類(lèi)：

PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體 4區(qū)
2022年12月升級(jí)版
綜述：否
TOP期刊：否
大類(lèi)：物理與天體物理 3區(qū)
小類(lèi)：

PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體 4區(qū)
2021年12月舊的升級(jí)版
綜述：否
TOP期刊：否
大類(lèi)：物理與天體物理 3區(qū)
小類(lèi)：

PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體 4區(qū)
2021年12月基礎(chǔ)版
綜述：否
TOP期刊：否
大類(lèi)：物理 4區(qū)
小類(lèi)：

PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體 4區(qū)
2021年12月升級(jí)版
綜述：否
TOP期刊：否
大類(lèi)：物理與天體物理 3區(qū)
小類(lèi)：

PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體 4區(qū)
2020年12月舊的升級(jí)版
綜述：否
TOP期刊：否
大類(lèi)：物理與天體物理 3區(qū)
小類(lèi)：

PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體 4區(qū)

中科院SCI分區(qū)：是中國(guó)科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心科學(xué)計(jì)量中心的科學(xué)研究成果。期刊分區(qū)表自2004年開(kāi)始發(fā)布，延續(xù)至今；2019年推出升級(jí)版，實(shí)現(xiàn)基礎(chǔ)版、升級(jí)版并存過(guò)渡，2022年只發(fā)布升級(jí)版，期刊分區(qū)表數(shù)據(jù)每年底發(fā)布。 中科院分區(qū)為4個(gè)區(qū)。中科院分區(qū)采用刊物前3年影響因子平均值進(jìn)行分區(qū),即前5%為該類(lèi)1區(qū)，6%～20%為2區(qū)、21%～50%為3區(qū)，其余的為4區(qū)。1區(qū)和2區(qū)雜志很少，雜志質(zhì)量相對(duì)也高，基本都是本領(lǐng)域的頂級(jí)期刊。

JCR分區(qū)（2023-2024年最新版）

Ieee Transactions On Plasma Science雜志 JCR分區(qū)信息

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)
學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
收錄子集：SCIE
分區(qū)：Q3
排名：29 / 40
百分位：

28.7%
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)
學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
收錄子集：SCIE
分區(qū)：Q3
排名：30 / 40
百分位：

26.25%

JCR分區(qū)：JCR分區(qū)來(lái)自科睿唯安公司,JCR是一個(gè)獨(dú)特的多學(xué)科期刊評(píng)價(jià)工具，為唯一提供基于引文數(shù)據(jù)的統(tǒng)計(jì)信息的期刊評(píng)價(jià)資源。每年發(fā)布的JCR分區(qū)，設(shè)置了254個(gè)具體學(xué)科。JCR分區(qū)根據(jù)每個(gè)學(xué)科分類(lèi)按照期刊當(dāng)年的影響因子高低將期刊平均分為4個(gè)區(qū)，分別為Q1、Q2、Q3和Q4，各占25%。JCR分區(qū)中期刊的數(shù)量是均勻分為四個(gè)部分的。

CiteScore 評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)（2024年最新版）

Ieee Transactions On Plasma Science雜志CiteScore 評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)

  • CiteScore 值：3
  • SJR：0.417
  • SNIP：0.861
學(xué)科類(lèi)別 分區(qū) 排名 百分位
大類(lèi)：Physics and Astronomy 小類(lèi)：Nuclear and High Energy Physics Q2 42 / 87

52%
大類(lèi)：Physics and Astronomy 小類(lèi)：Condensed Matter Physics Q3 247 / 434

43%
歷年影響因子和期刊自引率

投稿經(jīng)驗(yàn)

Ieee Transactions On Plasma Science雜志投稿經(jīng)驗(yàn)

該雜志是一本國(guó)際優(yōu)秀雜志，在國(guó)際上有較高的學(xué)術(shù)影響力，行業(yè)關(guān)注度很高，已被國(guó)際權(quán)威數(shù)據(jù)庫(kù)SCIE收錄，該雜志在PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS綜合專(zhuān)業(yè)領(lǐng)域?qū)I(yè)度認(rèn)可很高，對(duì)稿件內(nèi)容的創(chuàng)新性和學(xué)術(shù)性要求很高，作為一本國(guó)際優(yōu)秀雜志，一般投稿過(guò)審時(shí)間都較長(zhǎng)，投稿過(guò)審時(shí)間平均 約3.7個(gè)月 ，如果想投稿該刊要做好時(shí)間安排。版面費(fèi)不祥。該雜志近兩年未被列入預(yù)警名單，建議您投稿。如您想了解更多投稿政策及投稿方案，請(qǐng)咨詢(xún)客服。

免責(zé)聲明

若用戶需要出版服務(wù)，請(qǐng)聯(lián)系出版商：IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。